ナノ構造シリコンヘのH_2-N_2プラズマ処理効果(シリコン関連材料の作製と評価)
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概要
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本研究では,ナノ構造シリコン(NS)表面へのプラズマ処理がその表面構造に与える影響について検討した.このプラズマ処理は,H_2-N_2混合ガスの高周波グロー放電プラズマを用いて行った.その結果,プラズマ処理により表面形状,元素組成,原子結合状態及び電子欠陥状態が変化することが分かった.そして,これら構造変化の原因としてプラズマ中の電子状態やラジカル種,イオン種の状態が関係していることが推察された.
- 社団法人電子情報通信学会の論文
- 2010-12-10
著者
-
須田 健一
佐藤工業株式会社中央技術研究所
-
本橋 光也
東京電機大学工学部
-
本橋 光也
東京電機大学工学部情報通信工学科
-
仲田 英起
東京電機大学
-
渡辺 晃次
東京電機大学工学部
-
須田 健一
東京電機大学工学部
-
仲田 英起
東京電機大学工学部
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