蛭田 泰隆 | 東京電機大学
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概要
関連著者
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本間 和明
東京電機大学工学部電気電子工学科
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本間 和明
東京電機大学
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本橋 光也
東京電機大学工学部
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本橋 光也
東京電機大学工学部情報通信工学科
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蛭田 泰隆
東京電機大学大学院工学研究科
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本間 和明
東京電機大 工
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蛭田 泰隆
東京電機大学
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仲田 英起
東京電機大学
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仲田 英起
東京電機大学工学部
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芦部 健太
東京電機大学大学院工学研究科
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渡辺 侑
東京電機大学工学部
著作論文
- SiH_4-CH_4系ガスのグロー放電分解により生じるプラズマの発光特性(半導体材料・デバイス)
- SiH_4-N_2プラズマ中におけるN_2ラジカルの発光特性
- 原料ガス分離分解型プラズマCVD法により生じるH_2-N_2プラズマ状態の解析
- C-11-2 原料ガス分離分解型プラズマCVD法を用いたa-SiN:H薄膜の作製(C-11. シリコン材料・デバイス, エレクトロニクス2)