和賀井 達也 | 東京電機大学工学部情報通信工学科

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著作論文

• H_2-N_2系グロー放電プラズマ中の電子エネルギー状態
• シリコン系アモルファス薄膜の熱的構造安定性に関する研究
• 膜堆積時の基板温度がa-SiC:H積層膜中の原子結合状態に与える影響
• 膜堆積時の基板温度がa-SiC:H積層膜中の原子結合状態に与える影響(申請時課題名:ナノ構造を有するシリコン系材料の作製と構造安定性に関する研究)

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