面実装光受光器との光波結合を目指したシリコン導波路グレーティング結合器(一般,フォトニックNW・デバイス,フォトニック結晶・ファイバとその応用,光集積回路,光導波路素子,光スイッチング,導波路解析,一般)
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概要
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シリコンフォトニクスは光機能素子の小型化が可能であることや,大量生産性に優れることが期待されるなどの理由により大きな注目を集めている.ところが克服しなければならない課題も存在する.その一つに光受光器や光ファイバなどの外部素子との光波結合の問題が挙げられる.本報告ではグレーティング結合器を用いた面実装型光受光器とシリコン細線導波路間の偏波依存性の低い光波結合を報告する.製作されたグレーティング結合器では波長1550nmにおいて,0.68dBのTE-TMモード間の結合効率差が得られた.
- 社団法人電子情報通信学会の論文
- 2011-01-20
著者
-
水本 哲弥
東京工業大学
-
武井 亮平
東京工業大学大学院理工学研究科
-
水本 哲弥
東京工業大学 大学院理工学研究科
-
水本 哲弥
東京工業大学大学院理工学研究科電気電子工学専攻
-
光本 哲弥
東京工業大学大学院理工学研究科 電気電子工学専攻
-
内保 光太郎
東京工業大学
-
若井 達也
東京工業大学理工学研究科電気電子工学専攻
-
内保 光太郎
東京工業大学理工学研究科電気電子工学専攻
-
武井 亮平
東京工業大学理工学研究科電気電子工学専攻
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