シイタケ菌床栽培における温度,水分条件による子実体発生制御
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概要
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シイタケ菌床栽培において,高品質きのこの高収量生産を実現するために原基形成および子実体発生数と部位の調整を可能にする温度,水分条件について検討した.培養完了後,27℃,7日間の高温処理を行うことで原基形成数および子実体発生数を減少することができたが,部位の調整は困難であった.この高温処理と70%以上の高含水率条件を併用することで原基形成および子実体発生数だけでなく発生部位も上面に制御できることが分かった.本研究で効果の得られた栽培法を上面栽培法と名づけた.
- 日本きのこ学会の論文
- 2009-04-30
著者
-
飯塚 和也
宇都宮大学農学部
-
横田 信三
宇都宮大学農学部森林科学科
-
石栗 太
宇都宮大学農学部森林科学科
-
吉澤 伸夫
宇都宮大学農学部森林科学科
-
吉澤 伸夫
宇都宮大学農学部
-
横田 信三
宇都宮大学農学部
-
山内 隆弘
東京農工大学大学院連合農学研究科
-
鮎澤 澄夫
北研食用菌類研究所
-
枝 克昌
北研食用菌類研究所
-
吉沢 伸夫
宇都宮大学農学部
-
鮎澤 澄夫
株式会社北研 食用菌類研究所
-
石栗 太
宇都宮大学農学部
-
枝 克昌
株式会社北研 食用菌類研究所
-
鮎澤 澄夫
株式会社北研食用菌類研究所
-
石栗 太[他]
宇都宮大学農学部
-
石栗 太
宇都宮大学森林科学科
-
飯塚 和也
宇都宮大学森林科学科
-
吉澤 伸夫
宇都宮大学森林科学科
-
横田 信三
宇都宮大学森林科学科
-
石栗 太
宇都宮大学
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