25pTE-5 Si(100)表面における1,4-シクロヘキサジエンの吸着状態と温度依存性(表面界面構造,領域9,表面・界面,結晶成長)

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概要

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• 社団法人日本物理学会の論文
• 2008-02-29

著者

• 常行 真司

  東大院理

• 赤木 和人

  東北大WPI

• 常行 真司

  東京大学大学院理学系研究科物理学専攻

• 赤木 和人

  東大院理

• 赤木 和人

  東北大

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