スプレーCVD法によるEr_2SiO_5結晶薄膜の作製と評価(光パッシブコンポーネント(フィルタ,コネクタ,MEMS),シリコンフォトニクス,光ファイバ,一般)
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概要
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Er_2SiO_5結晶はシリコンフォトニクスの発光材料として期待されている。ゾルゲル法で作製されたEr_2SiO_5結晶からこれまでさまざまな特性が示されてきたが、成膜プロセスが煩雑でありデバイスを考慮した厚膜化には長時間掛かるという問題点がある。本研究ではEr_2SiO_5結晶のシリコンフォトニクス応用を目的として、これまでのEr_2SiO_5結晶ゾルゲルプロセスを発展させたスプレーCVD(化学気相堆積)法の検討を行なった。スプレー法適用のための原料溶液の調製を行なうとともに、スプレー照射条件を調べた。Er_2SiO_5非晶質母材をプロセスチャンバ内で一貫形成するとともに、結晶化を行なった結果、PL測定からEr_2SiO_5結晶の形成が確認された。
- 社団法人電子情報通信学会の論文
- 2008-12-12
著者
-
一色 秀夫
電気通信大学 電気通信学部 電子工学科
-
木村 忠正
電気通信大学 電気通信学部 電子工学科
-
木村 忠正
電気通信大学
-
吉澤 純
電気通信大学電気通信学研究科電子工学専攻
-
木村 忠正
電気通信大学 電子工学科
-
一色 秀夫
電気通信大学
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