RDT研究会の紹介と活動報告

スポンサーリンク

概要

• 論文の詳細を見る
• 日本信頼性学会の論文
• 1999-11-01

著者

• 木村 忠正

  電気通信大学 電気通信学部 電子工学科

• 木村 忠正

  電気通信大学

関連論文

• Er[x]Y2-xSiO5光導波路の作製と評価--シリコンフォトニクス用小型光増幅器の開発 (光エレクトロニクス)
• シリコンフォトニクスに向けた新しい発光材料 : Er_2SiO_5超格子結晶
• イオン打ち込みを利用したInGaAs/InAlAs量子井戸構造の混晶化
• 2008年度ノーベル物理学賞,化学賞の日本人受賞に思う
• 半導体デバイスの信頼性基礎講座(2)(RCJ故障物理研究委員会編) : LSIの寿命分布(信頼性基礎講座)
• CS-3-1 シリコン・フォトニクス技術への期待(CS-3.シリコン・フォトニクス技術の最新動向,シンポジウム)
• ナノテクノロジー時代のLSI技術動向(ナノテクノロジー時代の故障解析技術と解析ツール)
• 横断型科学技術の勧め
• 広がりを見せる"信頼性"
• ナノスケール高信頼性LSIの寿命分布 : 故障物理からのバスタブ曲線の考察(故障物理と信頼性)
• RDT研究会の紹介と活動報告
• 炭素の異常磁気抵抗の解釈
• 炭素材料のホール効果のドーピング依存の解釈
• グラファイトのホール効果とバンド パラメータの評価法
• 29a-H-12 黒鉛へのイオン照射 (2) : マクロな表面損傷
• 1a-SG-1 黒鉛へのイオン照射 (1)
• 29a-E-6 グラファイトへの窒素イオン注入: 電気的性貭
• 3a GE-12 BPの熱電能 I
• Er_xY_SiO_5光導波路の作製と評価 : シリコンフォトニクス用小型光増幅器の開発(光パッシブコンポネント(フィルタ、コネクタ、MEMS),シリコンフォトニクス,光ファイバ,一般)
• シリコンを光らせるにはどうすればよいのか--さまざまな発光機構とそれぞれの特徴 (特集 シリコンを光らせる)
• スプレーCVD法によるEr_2SiO_5結晶薄膜の作製と評価(光パッシブコンポーネント(フィルタ,コネクタ,MEMS),シリコンフォトニクス,光ファイバ,一般)
• シリコン発光デバイス : 現状と展望
• シリコンをベースとする発光デバイス : 現状と展望
• 高信頼性半導体デバイスの寿命分布と故障メカニズム
• 原子層成長による原子層フラクタル超格子の作製と評価
• 半導体デバイスの信頼性物理の歴史と将来
• シリコンフォトニクスの現状と将来
• メタンプラズマ中に置かれたSiウェハー上の生成物
• "More than Moore"への展開(CMOS技術の限界,課題,新しい展開)
• Er_Y_SiO_5結晶導波路における導波特性の評価(光パッシブコンポネント(フィルタ、コネクタ、MEMS)、シリコンフォトニクス、光ファイバ、一般)
• Er_Y_SiO_5結晶導波路における導波特性の評価

もっと見る 閉じる

スポンサーリンク