木村 忠正 | 電気通信大学 電気通信学部 電子工学科
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概要
関連著者
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木村 忠正
電気通信大学 電気通信学部 電子工学科
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木村 忠正
電気通信大学
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電気通信大学通信研究施設固体電子素子研究室
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千葉大工
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東京大学工学系研究科電子工学専攻
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青柳 克信
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電気通信大学共通講座通信基礎学研究室
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神谷 武志
東京大学大学院電子工学専攻
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山村 真一
電気通信大学電子工学科
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鈴木 和久
電気通信大学電子工学科
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斉藤 理一郎
電気通信大学電子工学科
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村田 道夫
住友電工
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神谷 武志
東大工
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須川 真
講談社
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行実 重利
電通大
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小松 敏夫
電気通信大学
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世良 克己
電気通信大学
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行実 重利
電気通信大学
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電気通信大学電気通信学研究科電子工学専攻
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高橋 雅也
大阪市立工業研究所 無機化学課
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田中 康仁
電気通信大学電気通信学部
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菅野 卓雄
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菅野 卓雄
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Katase Takayoshi
Aterials And Structures Laboratory Tokyo Institute Of Technology
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中島 崇之
電気通信大学 電気通信学部
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中島 崇之
電気通信大学
著作論文
- Er[x]Y2-xSiO5光導波路の作製と評価--シリコンフォトニクス用小型光増幅器の開発 (光エレクトロニクス)
- シリコンフォトニクスに向けた新しい発光材料 : Er_2SiO_5超格子結晶
- イオン打ち込みを利用したInGaAs/InAlAs量子井戸構造の混晶化
- 2008年度ノーベル物理学賞,化学賞の日本人受賞に思う
- 半導体デバイスの信頼性基礎講座(2)(RCJ故障物理研究委員会編) : LSIの寿命分布(信頼性基礎講座)
- CS-3-1 シリコン・フォトニクス技術への期待(CS-3.シリコン・フォトニクス技術の最新動向,シンポジウム)
- ナノテクノロジー時代のLSI技術動向(ナノテクノロジー時代の故障解析技術と解析ツール)
- 横断型科学技術の勧め
- 広がりを見せる"信頼性"
- ナノスケール高信頼性LSIの寿命分布 : 故障物理からのバスタブ曲線の考察(故障物理と信頼性)
- RDT研究会の紹介と活動報告
- 炭素の異常磁気抵抗の解釈
- 炭素材料のホール効果のドーピング依存の解釈
- グラファイトのホール効果とバンド パラメータの評価法
- 3a GE-12 BPの熱電能 I
- Er_xY_SiO_5光導波路の作製と評価 : シリコンフォトニクス用小型光増幅器の開発(光パッシブコンポネント(フィルタ、コネクタ、MEMS),シリコンフォトニクス,光ファイバ,一般)
- シリコンを光らせるにはどうすればよいのか--さまざまな発光機構とそれぞれの特徴 (特集 シリコンを光らせる)
- スプレーCVD法によるEr_2SiO_5結晶薄膜の作製と評価(光パッシブコンポーネント(フィルタ,コネクタ,MEMS),シリコンフォトニクス,光ファイバ,一般)
- シリコン発光デバイス : 現状と展望
- シリコンをベースとする発光デバイス : 現状と展望
- 高信頼性半導体デバイスの寿命分布と故障メカニズム
- 原子層成長による原子層フラクタル超格子の作製と評価
- 半導体デバイスの信頼性物理の歴史と将来
- シリコンフォトニクスの現状と将来