1512 波長走査干渉法による半導体マスクガラスの表面形状及び厚さ変動の超精密計測(S76 加工計測・評価システム,S76 加工計測・評価システム)
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概要
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Mask glasses for semi-conductor process require a surface flatness and a homogeneity of optical thickness better than 100nm. Measurements of both quantities up to 10nm precision are essential to making the glasses. Wavelength tuning interferometry allows nondestructive inspection of these glasses with a high z-axial resolution in a short period of time. We measured the surface shape and the optical thickness variation of a 7-inch mask glass by wavelength tuning Fizeau interferomety. Experimental results show that the surface shape and the optical thickness variation were measured with an uncertainty of 10nm.
- 一般社団法人日本機械学会の論文
- 2006-09-15
著者
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