2304 磁気応答流体の新しいポリッシングに関する研究 : 流体からの研磨メカニズムの解明(S42-1 複雑流体の流動現象(1),S42 複雑流体の流動現象)
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概要
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As a new intelligent fluid, we have proposed a magnetic compound fluid (MCF). This fluid has nm-sized magnetite and μm-sized iron particles in a solvent. In this report, we clarified the polishing mechanism on MCF float polishing. The MCF polishing is fine finishing with nm-order surface roughness and has a large clearance between the polishing tool and the polished specimen. These causes are due to the magnetic clusters in the MCF, the buffer material of α-cellulose and the abrasive particles involved in the clusters.
- 2006-09-15
著者
-
島田 邦雄
福島大学共生システム理工学類
-
島田 邦雄
福島大学
-
島田 邦雄
福大
-
松尾 良夫
FDK(株)
-
呉 勇波
秋田県立大学システム科学技術学部
-
松尾 良夫
Fdk(株) 基盤技術開発部
-
呉 勇波
秋田県立大学
-
島田 邦雄
福島大學
-
呉 勇波
秋県大
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