OS1-05 高速薄膜の蒸発による局所高熱流束冷却に関する研究(OS1 マイクロエネルギー変換)
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概要
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Local high-heat-flux cooling by high-velocity thin-film evaporation was examined experimentally for cooling of Micro-Processor-Unit. Steady state experiments were conducted using a copper thin-film and rectangular sub-millimeter-channels. The height of the test channel was 0.5mm and 0.2mm, respectively. The size of the heater was 2×2mm^2. Arange of the liquid velocity was 3 to 5m/s: the liquid subcooling was 20K. Experimental results showed that the heat flux during experiment with the heating surface at exit of the test section was higher than that with the heater in the test channel. The maximum heat flux (critical heat flux) was 3×10^6W/m^2 in a range of present experiments.
- 一般社団法人日本機械学会の論文
- 2005-06-28
著者
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