2.3 ウェハ裏面からの観測が可能なレーザSQUID顕微鏡(セッション2「故障解析2」)
スポンサーリンク
概要
- 論文の詳細を見る
- 日本信頼性学会の論文
- 2003-05-25
著者
関連論文
- レーザーテラヘルツエミッション顕微鏡によるMOSトランジスタの観察(LSIシステムの実装・モジュール化・インタフェース技術, テスト実装, 一般)
- レーザーテラヘルツエミッション顕微鏡のLSI故障解析への応用
- レーザーテラヘルツ放射顕微鏡のLSI故障解析への応用
- CS-11-3 レーザーテラヘルツエミッション顕微鏡とLSI不良解析への応用(CS-11. ミリ波・テラヘルツ波技術の新展開, エレクトロニクス1)
- レーザーテラヘルツエミッション顕微鏡によるMOSトランジスタの観察(LSIシステムの実装・モジュール化・インタフェース技術, テスト実装, 一般)
- 作りこみ欠陥を有する完成チップの走査レーザSQUID顕微鏡による観測(LSIシステムの実装・モジュール化・インタフェース技術, テスト実装, 一般)
- 作りこみ欠陥を有する完成チップの走査レーザSQUID顕微鏡による観測(LSIシステムの実装・モジュール化・インタフェース技術, テスト実装, 一般)
- 3-4 不良作り込みICチップを用いた走査レーザSQUID顕微鏡での故障個所絞り込み可能性の検討(セッション3 LSIの故障解析-2)(日本信頼性学会第17回秋季信頼性シンポジウム報告)
- 3-4 不良作り込みICチップを用いた走査レーザSQUID顕微鏡での故障個所絞り込み可能性の検討(セッション3 LSIの故障解析(2),第17回秋季信頼性シンポジウム)
- 2-3 走査レーザSQUID顕微鏡による256MDRAMの観測(日本信頼性学会第12回研究発表会発表報文集)
- 3.1 OBIRCH (Optical Beam Induced Resistance CHange)法の発展経緯・現状・将来展望(セッション3「故障解析・デバイス(2)」)(第16回信頼性シンポジウム発表報文集)
- 3-1 OBIRCH (Optical Beam Induced Resistance CHange) 法の発展経緯・現状・将来展望
- 2.3 ウェハ裏面からの観測が可能なレーザSQUID顕微鏡(セッション2「故障解析2」)
- LSIにおける故障解析技術
- レーザービーム加熱を利用した半導体デバイスの解析手法 : OBIRCH法の現状と今後
- 2-1 LSI故障解析研究会活動状況報告(セッション2「試験,故障解析,部品,要素技術の信頼性,ハードウェア面」)
- CT-2-1 LSI不良・故障解析技術の現状とレーザSQUID顕微鏡の適用(CT-2. SQUID先端検査技術の実用化を目指して,チュートリアルセッション,ソサイエティ企画)
- C-12-32 LSI故障診断用走査レーザSQUID顕微鏡観測画像のシミュレーション(C-12.集積回路ABC,一般講演)
- LSI故障解析手法における最近10年の進展(「信頼性・保全性・安全性の事例:材料・部品・デバイス編」〜信頼性ハンドブック出版から10年を経て〜)
- 光を用いたLSIの故障解析技術(故障物理と信頼性)
- 走査レーザSQUID顕微鏡によるLSIの検査・故障解析
- 2.3ウェハ裏面からの観測が可能なレーザSQUID顕微鏡(セッション2「故障解析2」)(日本信頼性学会第11回研究発表会報告)
- LSIの故障解析技術の最近の動向
- LSI故障解析における光の復権