二川 清 | Necエレクトロニクス株式会社 テスト評価技術開発事業部
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概要
関連著者
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二川 清
NECエレクトロニクス
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二川 清
Necエレクトロニクス株式会社 テスト評価技術開発事業部
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酒井 哲哉
Necエレクトロニクス株式会社 テスト評価技術開発事業部
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酒井 哲哉
Necエレクトロニクス
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二川 清
大阪大学大学院情報科学研究科情報システム工学専攻
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二川 清
Necエレクトロニクス(株)
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二川 清
Nec
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二川 清
Necエレクトロニクス(株)生産本部テスト評価技術
著作論文
- 作りこみ欠陥を有する完成チップの走査レーザSQUID顕微鏡による観測(LSIシステムの実装・モジュール化・インタフェース技術, テスト実装, 一般)
- 作りこみ欠陥を有する完成チップの走査レーザSQUID顕微鏡による観測(LSIシステムの実装・モジュール化・インタフェース技術, テスト実装, 一般)
- 3-4 不良作り込みICチップを用いた走査レーザSQUID顕微鏡での故障個所絞り込み可能性の検討(セッション3 LSIの故障解析-2)(日本信頼性学会第17回秋季信頼性シンポジウム報告)
- 3-4 不良作り込みICチップを用いた走査レーザSQUID顕微鏡での故障個所絞り込み可能性の検討(セッション3 LSIの故障解析(2),第17回秋季信頼性シンポジウム)
- 2-3 走査レーザSQUID顕微鏡による256MDRAMの観測(日本信頼性学会第12回研究発表会発表報文集)
- 3.1 OBIRCH (Optical Beam Induced Resistance CHange)法の発展経緯・現状・将来展望(セッション3「故障解析・デバイス(2)」)(第16回信頼性シンポジウム発表報文集)
- 3-1 OBIRCH (Optical Beam Induced Resistance CHange) 法の発展経緯・現状・将来展望
- 2.3 ウェハ裏面からの観測が可能なレーザSQUID顕微鏡(セッション2「故障解析2」)
- 2-1 LSI故障解析研究会活動状況報告(セッション2「試験,故障解析,部品,要素技術の信頼性,ハードウェア面」)