Focusing Characteristics of High-Efficiency Fresnel Zone Plate Fabricated by Deep Ultraviolet Lithography
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概要
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The feasibility of using photoresist Fresnel zone plates as micro-optic components was examined experimentally. Deep UV lithography was used to fabricate zone plates with submicron pitch, and nearly diffraction-limited spot formation and high efficiency were achieved. The direct collimation of a semiconductor laser beam was demonstrated.
- 社団法人応用物理学会の論文
- 1986-02-20
著者
-
神谷 武志
東大工
-
Okada Y
Sumitomo Heavy Ind. Ltd. Tokyo Jpn
-
Okada Y
Institute Of Applied Physics. University Of Tsukuba
-
Kamiya Takeshi
Department Of Applied Physics Faculty Of Engineering University Of Tokyo:(present Address) Departmen
-
Kodate K
Japan Women's Univ. Tokyo Jpn
-
Kodate Kashiko
Physics Laboratory Japan Women's University
-
OKADA Yoshiko
Physics Laboratory, Japan Women's University
-
TAKENAKA Haruko
Physics Laboratory, Japan Women's University
-
Takenaka Haruko
Physics Laboratory Japan Women's University
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