Effects of He Gas Addition on the Production of Active Particles in rf Magnetron Sputtering
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概要
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- 社団法人応用物理学会の論文
- 1996-06-15
著者
-
KISHIDA Satoru
Department of Electronics, Faculty of Engineering, Tottori University
-
TOKUTAKA Heizo
Department of Electronics, Faculty of Engineering, Tottori University
-
Kishida S
Opto-electronics Research Laboratories Nec Corporation
-
MARUYAMA Takafumi
Department of Environmental Science and Technology, Faculty of Engineering, Shinshu University
-
Kishida Satoru
Department Of Electrical And Electronic Engineering Faculty Of Engineering Tottori University
-
Tokutaka H
Tottori Univ. Tottori Jpn
-
Tokutaka Heizo
Som Japan Inc.
-
Tokutaka Heizo
Department Of Electrical And Electronic Engineering Faculty Of Engineering Tottori University
-
Maruyama Takafumi
Department Of Electrical And Electronic Engineering Tottori University
-
HARADA Kanji
Department of Electrical Engineering, Tsuyama National College of Technology
-
FUJIMURA Kikuo
Department of Electrical and Electronic Engineering, Tottori University
-
Fujimura Kikuo
Department Of Electrical And Electronic Engineering Tottori University
-
MATSUOKA Takeru
Department of Electrical and Electronic Engineering, Tottori University
-
KOYANAGI Tsuyoshi
Faculty of Engineering, Yamaguchi University
-
FUJII Takamichi
Kansai Research Institute, Kyoto Research Park
-
Koyanagi Tsuyoshi
Faculty Of Engineering Yamaguchi University
-
Fujii Takamichi
Kansai Research Institute Kyoto Research Park
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