C-3-45 高規則アルミナ上へのオートクローニングによる Ta_2O_5/SiO_2 3 次元構造作製と特性評価
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概要
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- 社団法人電子情報通信学会の論文
- 2003-09-10
著者
-
永沼 充
帝京科学大学
-
西尾 和之
神奈川科学技術アカデミー
-
益田 秀樹
神奈川科学技術アカデミー
-
中尾 正史
日本電信電話株式会社:nttフォトニクス研究所:(現)東北大学金属材料研究所
-
井筒 雅之
(独)情報通信研究機構
-
佐藤 尚
日本電信電話株式会社東北大NICHe
-
山田 基弘
日本電信電話株式会社都立大工
-
西尾 和之
日本電信電話株式会社都立大工
-
益田 秀樹
日本電信電話株式会社都立大工
-
永沼 充
日本電信電話株式会社帝京科大工
-
井筒 雅之
日本電信電話株式会社通信総研
-
Masuda Hideki
Ogawa & Co. Ltd. Material R&d Laboratory
-
永沼 充
帝京科大
-
中尾 正史
日本電信電話株式会社 Nttフォトニクス研究所
-
永沼 充
日本電信電話公社武蔵野電気通信研究所
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