ナノホール垂直パターンドメディア(高密度記録媒体の開発とその関連技術の進展)
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概要
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2.5インチガラスHD基板上に、陽極酸化法を用いて63nmピッチのアルミナナノホールを形成し、その中に交流めっき法によりCoを充填して、ナノホール垂直パターンドメディアを作製した。表面平坦化および保護膜/潤滑膜形成を行い、GMRリード素子を含むマージ型リングヘッドを用いて、リード/ライト特性の評価に成功した。また、ナノホールのアスペクト比を制御し、磁気特性とリードライト特性の相関関係を調べた。
- 社団法人電子情報通信学会の論文
- 2005-07-01
著者
-
益田 秀樹
首都大学東京
-
西尾 和之
首都大学東京
-
松本 幸治
山形富士通次世代媒体開発推進室
-
森河 剛
山形富士通次世代媒体開発推進室
-
菊地 英幸
(株)富士通研究所 ストレージシステム研究所
-
森河 剛
富士通研
-
松本 幸治
富士通研究所
-
松本 幸治
(株)富士通研究所
-
中尾 宏
山形富士通
-
大島 弘敬
山形富士通
-
菊地 英幸
山形富士通
-
伊藤 健一
山形富士通
-
西尾 和之
神奈川科学技術アカデミー
-
益田 秀樹
神奈川科学技術アカデミー
-
菊地 英幸
(株)山形富士通磁気媒体統括部
-
中尾 宏
(株)山形富士通磁気媒体統括部
-
大島 弘敬
(株)山形富士通磁気媒体統括部
-
安井 憲志
東京都立大学
-
森河 剛
(株)富士通研究所ストレージシステム研究所
-
伊藤 健一
(株)山形富士通磁気媒体統括部
-
Masuda Hideki
Ogawa & Co. Ltd. Material R&d Laboratory
-
菊池 英幸
山形富士通
-
安井 憲志
東京都立大学:(現)三浦工業
-
益田 秀樹
首都大学東京大学院都市環境科学研究科
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