ISSG膜の構造解析
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概要
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ゲート膜対応のRapid Thermal oxidation (RTO)膜とin-situ steam generation(ISSG)膜を傾斜エッチング法でサンプリングし、XPS、IR、PL測定を試みた。また、GIXR法による密度分布やEELS測定も行った。ISSG膜はSiO_2/Si界面付近における欠陥がRTO膜に比較して少ないことが示された。
- 社団法人電子情報通信学会の論文
- 2001-05-31
著者
-
橋本 秀樹
株式会社東レリサーチセンター
-
大塚 祐二
株式会社東レリサーチセンター
-
大塚 祐二
(株)東レリサーチセンター
-
橋本 秀樹
(株)東レ リサーチセンター
-
永井 直人
(株)東レリサーチセンター
-
永井 直人
東レリサーチセンター(株)
-
松延 剛
(株)東レリサーチセンター
-
村司 雄一
(株)東レリサーチセンター
-
村司 雄一
(株)東レリサーチセンター 表面科学研究部
-
橋本 秀樹
東レリサーチセ
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