ポリメチルフェニルシランの光学挙動の温度依存性
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概要
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有機EL素子への応用を目的として、ポリメチルフェニルシラン(PMPS)薄膜の作製条件と温度処理による物性変化を検討した。その結果、PMPSフィルムを加熱するとUV吸収及びPL(フォトルミネッセンス)発光のピーク波長が長波長側にシフトし、吸光度及び発光強度も増大することを見出した。さらに、冷却及び再加熱のプロセスは7,3-helixの構造を持つポリシランの温度依存性と同じであることがわかった。また、ポリスチレンを加えた薄膜はPMPS単体の薄膜よりもPL強度が増大することを見出した。
- 社団法人電子情報通信学会の論文
- 2002-09-13
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