硬質BN薄膜における微小硬さの温度依存性
スポンサーリンク
概要
- 論文の詳細を見る
窒化ほう素(BN)は結晶構造や種々の特性において常に炭素(C)と比較される興味ある物質である.六方晶BN(hBN)はCにおけるグラファイトと類似の結晶構造で、固体潤滑材や絶縁材として、立方晶BN(cBN)はダイヤモンドと類似の結晶構造で、電子材料や切削材料などへの応用が期待されている.特にcBNはダイヤモンドに比べて高温まで安定なことや、鉄系材料の切削に対して安定であることは良く知られている.ここでは、サドルフィールド形のイオン源による窒素イオンの照射と、電子銃によるBの蒸発を同時に行う方法により、硬質BN膜を得た.そこで、Si(111)基板上に堆積させた硬質BN薄膜の硬さ(Hd)を、室温(RT)から800℃の範囲で測定した結果について報告する.
- 1996-03-11
著者
関連論文
- B-C-N薄膜における微小硬さの温度依存性
- B-C-N薄膜の光電子スペクトル解析
- 硬質BN薄膜における微小硬さの温度依存性
- サドルフィールド形イオン源によるBN薄膜の作製における窒素イオンの役割
- C-6-5 ポストアニールしたBN薄膜の構造
- 硬質BN薄膜における微小硬さの成膜温度依存性
- サドルフィールド形イオン源によるBN薄膜の作製における窒素イオンの役割
- サドルフィールド形イオン源によるB-C-N薄膜の作製