サドルフィールド形イオン源によるBN薄膜の作製における窒素イオンの役割
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概要
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低圧気相成長法による薄膜の作製技術として,CVD(chemical vapor deposition)法やPVD(physical vapor deposition)法,あるいは双方の要素を有する方法などがある.これらの方法により薄膜を作製する場合,よくイオンが利用される.薄膜形成におけるイオンの役割は種々あるが,イオンの挙動に関する物理機構についての統一的知見はまだ得られていない.ここでは,サドルフィールド型イオン源を使ったBN薄膜作製過程における,BNの生成に関するイオンの役割について調べることを目的として行なった実験結果について述べる.
- 社団法人電子情報通信学会の論文
- 1995-03-27
著者
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