C-3-129 レーザビーム描画マスクを用いたチャープファイバグレーティングの群遅延リップルの低減化
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概要
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- 社団法人電子情報通信学会の論文
- 2003-03-03
著者
-
小向 哲郎
日本電信電話株式会社NTT未来ねっと研究所
-
乾 哲郎
日本電信電話株式会社NTT未来ねっと研究所
-
栗原 正彰
大日本印刷株式会社半導体製品研究所
-
栗原 正彰
大日本印刷ミクロ製品研究所
-
乾 哲郎
日本電信電話(株)ntt未来ねっと研究所
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