チャープファイバグレーティングにおける群遅延リプルの発生原因の解明とその回避方法の提案
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概要
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本論文ではチャープ位相マスクにより作製したファイバグレーティングの特性と位相エラーのないユニフォームなファイバグレーティングにひずみを付与することによりチャープ化したファイバグレーティングの特性とを比較検討した. その結果, 群遅延リプルの支配的な発生要因がチャープ位相マスクの位相エラーにあることを明らかにした.また,位相エラーのないファイバグレーティングを内包した梁をS字形の溝に挿入して線形ひずみを付与することにより従来よりも群遅延リプルの小さなチャープファイバグレーティングが容易に得られることを示した.
- 社団法人電子情報通信学会の論文
- 2001-08-01
著者
-
中沢 正隆
東北大学電気通信研究所
-
小向 哲郎
日本電信電話株式会社NTT未来ねっと研究所
-
乾 哲郎
日本電信電話株式会社NTT未来ねっと研究所
-
中沢 正隆
日本電信電話株式会社NTT未来ねっと研究所
-
乾 哲郎
日本電信電話(株)ntt未来ねっと研究所
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