多重露光した電子ビーム描画位相マスクによるチャープファイバグレーティングの群遅延リップルの低減化
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概要
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- 2000-03-07
著者
-
中沢 正隆
東北大学電気通信研究所
-
中沢 正隆
NTT未来ねっと研究所
-
小向 哲郎
日本電信電話株式会社NTT未来ねっと研究所
-
乾 哲郎
日本電信電話株式会社NTT未来ねっと研究所
-
小向 哲郎
NTT未来ねっと研究所
-
乾 哲郎
NTT未来ねっと研究所
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