ドライエッチングによるマイクロキャビティレーザの作製 : AlAs/AlGaAs多層膜エッチング条件の検討

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概要

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RIBEによる円柱型マイクロキャビティの作製について検討した。エッチングガスには、Cl_2, Ar混合ガスおよびCl_2を用いた。Cl_2/Ar混合ガスを用い、Ar圧力0.5mTorr、Cl_2圧力0.5mTorr以下の条件でGaAsとAlAsの等速エッチングが可能であった。また、AlAs/AlGaAs多層膜のエッチングにおいても、垂直で凹凸の小さいエッチング側壁が得られた。この条件で直径約1.5μmの円柱型マイクロキャビティが作製できた。作製したマイクロキャビティの時間分解PL測定を行い、三次元光閉じ込め構造において自然放出確立の増大が観察された。また、時間分解PLを用いた加工損傷の評価を行ったが、直径3μm以上の円柱では加工損傷は検出されなかった。
社団法人電子情報通信学会の論文
1993-10-22

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