微細加工TbFe合金膜へのパルス電流加熱による熱磁気記録(光記録及び一般)
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概要
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マグネトロンスパッタ法により作製したTbFe(80nm)膜を集束イオンビーム(FIB)およびフォトリソグラフィーにより0.5μm□から2μm□の寸法に加工し,パルス電流加熱による熱磁気記録を行った.0.5μm□から2μm□の試料において500Oe の磁場中で電流パルスを印加することで磁化反転することを確認した.磁化反転した電流密度は素子サイズが小さくなるに従い減少し,2μm□,1.0μm□,0.5μm□の素子でそれぞれ4.0×10^6,2.5×10^6,1.3×10^6A/cm^2であった.これは素子面積あたりのジュール熱に換算してそれぞれ33,13,3pJ/μm^2に相当する.
- 社団法人電子情報通信学会の論文
- 2004-02-27
著者
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