投影正規化相関法の検討と評価

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LSI製造装置やその他FAの分野で濃淡パターンマッチング方式による位置決めや文字認識処理が注目を集めている。なかでも正規化相関法を用いた濃淡パターンマッチング方式は、二値画像によるパターンマッチング方式に比して、照明や撮影の条件変化に基づく濃度レベルやコントラストの変化に強いと言われる。更に補間処理により、画素間隔よりも細かい精度(サブピクセル精度)で位置決めできるという利点がある。反面、演算量の多さが高速処理の障害となる欠点がある。そこでこの問題を解決するために段階的なパターンマッチング方式が提案されている。これは画像の解像度を落とした状態で大まかにサーチして候補を小領域に絞り込んだ後に、本来の解像度で精密に類似度を計算するものである。しかしこの方法はテンプレートが大きくなると大まかなサーチの回数が増えたり、精密計算時の演算量が増えたりで、演算量削減の効率が低下するという問題を有している。そこで本報告では大まかなサーチをせずに演算量を削減し、しかもサブピクセル精度を保つ濃淡パターンマッチング方式として、2方向に投影した画像に関して1次元の正規化相関演算によって類似度を計算する投影正規化相関法を提案して評価する。
一般社団法人情報処理学会の論文
1992-02-24

投影正規化相関法の検討と評価

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