CMOS論理セルレイアウトの網羅的生成による製造時の配線欠陥最小化手法(VLSIの設計/検証/テスト及び一般配置配線)
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概要
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本橋では,最小幅のCMOS論理セルレイアウトを網羅的に生成することにより,製造時に配線に欠陥が発生する確率の最も小さいレイアウトを得る手法を提案する.本手法では,製造時に発生するスポット状の欠陥(Spot Defect)により二つめセル内配線が短絡する確率を,その欠陥の大きさの分布と,欠陥がそこに発生することにより短絡を引き起こす領域(Critical Area)の終端や角での効果を考慮に入れ,それをコスト関数として用いる.これを用いることにより,網羅的に生成した最小幅のセルレイアウトから配線の短絡が最も起きにくいレイアウトを選びだすことが可能となる.レイアウト生成においては,充足可能性判定を用いた手法田を.利用して可能な幅最小のトランジスタ配置を全て生成し,それら全てに対してセル内配線に特化した網羅的配線手法を適用することにより可能なセルレイアウトパターンを全て生成する.本手法をトランジスタ数14までのCMOS論理回路に適用することにより,配線長最小の解を選びだした場合と比較して配線の短絡の発生確率を約15%削減できることを示した.
- 一般社団法人情報処理学会の論文
- 2003-11-27
著者
-
池田 誠
東京大学大規模集積システム設計教育研究センター
-
浅田 邦博
東京大学大規模集積システム設計教育研究センター
-
飯塚 哲也
東京大学大規模集積システム設計教育研究センター(VDEC)
-
浅田 邦博
東京大学大学院工学系研究科電子工学専攻
-
浅田 邦博
東京大学大学院工学系研究科
-
池田 誠
東京大学大学院工学系研究科
-
飯塚 哲也
東京大学大学院工学系研究科:東京大学大規模集積システム設計教育研究センター
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