611 プラズマイオン注入・成膜法による厚膜 DLC の作製
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概要
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The relaxation of compressive residual stress in a diamond-like carbon (DLC) film was achieved by a hybrid process of plasma-based ion implantation and deposition (PBIID), and made it possible to prepare tick DLC film. The compressive residual stress in the DLC film prepared using acetylene gas was decreased with an increase in the negative pulse voltage for ion implantation from 0.46 GPa at no pulsed voltage to 0.16 GPa at the pulsed voltage of -20 kV. The DLC film had about 0.22 GPa that was little dependent on the RF pulse width.
- 社団法人日本機械学会の論文
- 2003-10-17
著者
-
藤原 閲夫
兵庫県立大学
-
藤原 閲夫
姫路工大
-
八束 充保
姫路工業大学工学部
-
八束 充保
姫路工大工
-
岡 好浩
兵庫県立大院工
-
八束 充保
兵庫県立大院工
-
八束 充保
兵庫県立大学大学院工学研究科電気系工学専攻
-
岡 好浩
姫路工大
-
西村 芳実
姫路工大
-
東 欣吾
姫路工大
-
西村 芳実
(株)栗田製作所
-
東 欣吾
姫路工業大学 大学院工学研究科
-
西村 芳実
栗田製作所
-
岡好 浩
兵庫県立大学
-
八束 充保
兵庫県大
-
八束 充保
姫路工大 工
-
八束 充保
姫路工大
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