マイクロマシン用ランプ加熱型減圧CVDの試作と特性研究 : ポリシリコンの成膜特性
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概要
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In the micromachining research field, there are great demands to reduce the start-up and shut-down time of film deposition system, to reduce running costs, to produce thick film of polysilicon, and to enable the high-speed polysilicon film deposition. However, no such polysilicon film deposition system which fulfills the above-listed demans can currently bc found. Therefore, in order to meet these derilands, the authors designed new LPCVD which is characterized by spot-heating using a lamp and produced a prototype of this apparatus, and actually operated this apparatus to study its characteristics.
- 公益社団法人精密工学会の論文
- 1999-02-05
著者
-
植田 哲生
セントラルエンジニアリング(株)
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清水 聖治
大島商船高等専門学校 商船学科
-
栗林 勝利
山口大学工学部
-
清水 聖治
山口大学工学部
-
長谷川 暁
山口大学工学部
-
長谷川 暁
三菱電機(株)
-
清水 聖治
商船学科
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