小径および均一フィラー添加埋め込み樹脂の開発およびその樹脂埋め込み型高周波 MCM への応用
スポンサーリンク
概要
- 論文の詳細を見る
樹脂埋め込み型高周波MCMプロセスにおける配線の損傷や断線対策として, 埋め込み樹脂に添加するフィラーの小径化および均一化を図った。また, この新樹脂の有用性を実装, プロセスおよび高周波特性の両面から検証した。実装およびプロセス面からは, Siフィラー径を∿10μm以下にすることにより埋め込み樹脂の研削面粗さ∿0.44μm, BCB層間樹脂面の平坦性∿0.25μm(従来樹脂の1/2以下)が得られ, 配線の損傷や断線を防止できることを明らかにした。また, Cu電極やAuバンプの研削加工面粗さとして0.2∿0.3μmが得られ, 配線との接続に十分供し得ることおよび新樹脂と同時に研削可能なことがわかった。高周波特性に対しては以上の検討を基にSi-MOSFETを用いた電力増幅MCMを試作し, 1.42GHzにおいて出力電力28.5dBm, 電力付加効率40%を得た。この結果から, 新埋め込み樹脂がGHz帯で動作する高周波MCMの実現に有用であることを実証できた。
- 社団法人エレクトロニクス実装学会の論文
- 2000-03-01
著者
-
山田 宏治
株式会社日立製作所中央研究所
-
山下 喜市
株式会社日立製作所中央研究所
-
関根 健治
株式会社日立製作所中央研究所
-
福島 喜久男
株式会社日立製作所中央研究所
-
広川 孝三
株式会社日立化成工業下館工場
-
山下 喜市
株式会社日立製作所中央研究所:鹿児島大学工学部電気電子工学科
-
関根 健治
(株)日立製作所 中央研究所
関連論文
- 1.8GHz帯SiパワーMOS増幅器の高出力化の検討
- 移動体無線用SiパワーMOS集積デバイス
- 高周波SiパワーMOSFETにおける線形増幅特性
- 化学的ウエットエッチングによる樹脂フィルム上へのSrTiO_3薄膜容量形成プロセス技術
- SC-9-3 裏面エミッタ電極を有する小型 InGaP/GaAs コレクタアップ・トンネリングコレクタ HBT
- C-10-3 裏面エミッタ電極を有するInGaP/GaAsコレクタアップ・トンネリングコレクタHBTの試作
- 樹脂埋め込み型高周波 MCM への STO 薄膜容量内藏プロセス技術の検討および周波数特性
- 小径および均一フィラー添加埋め込み樹脂の開発およびその樹脂埋め込み型高周波 MCM への応用
- 樹脂埋込み型GHz帯フェイスアップ高周波MCM (特集 情報・通信の変革に伴う 基板材料の新展開) -- (実装基板--3.高周波回路用)
- 樹脂埋め込み型GHz帯高周波MCM技術 (実装技術ガイドブック1999年) -- (実装プロセス編)
- 樹脂埋め込み型高周波 MCM の新構造とエッチング/プレス一括成形工法
- 樹脂埋め込み型フェイスアップ高周波 MCM
- B-1-95 円偏波パッチアンテナの軸比の検討
- 76GHz帯MMIC車載レーダシステム
- 76GHz帯MMIC車載レーダシステム
- 76GHz帯MMIC車載レーダシステム
- C-2-73 ミリ波レーダのアンテナ一体化構造における実装特性
- C-2-91 ミリ波モジュールの静電気放電対策
- 樹脂上に形成した高Q薄膜インダクタの一検討
- 1.9GHz帯セルラ用小型電力増幅器MCM
- 通信システム(最先端システム実装の設計思想)