化学的ウエットエッチングによる樹脂フィルム上へのSrTiO_3薄膜容量形成プロセス技術
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概要
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低コスト化の観点より,STO(SrTiO_3)薄膜容量の形成が可能な基板材料,電極構成,パターン加工プロセス技術の検討ならびに試作したSTO薄膜容量の高周波特性の評価を行った。その結果,(1)ポリイミドおよびガラスエポキシ樹脂へのSTO薄膜容量の形成が可能である,(2)Ru/STO/Cr-Cu 3層膜構成が有望である,(3)全化学エッチング技術によるSTO薄膜容量(膜厚300nm)の一括パターン加工形成が可能であることを明らかにした。また,試作したSTO薄膜容量が,容量値10pF,比誘電率17および容量密度500pF/mm^2で,10GHzまで平坦な周波数特性を示すことを確認した。
- 社団法人エレクトロニクス実装学会の論文
- 2009-09-01
著者
-
岡部 寛
京都大学消化管外科
-
岡部 寛
株式会社日立製作所中央研究所
-
山田 宏治
株式会社日立製作所中央研究所
-
山下 喜市
株式会社日立製作所中央研究所
-
山下 喜市
株式会社日立製作所中央研究所:鹿児島大学工学部電気電子工学科
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