Electron Projection Lithographyのための相補型ステンシルマスクのつなぎ補助の検討
スポンサーリンク
概要
著者
-
黒木 幸令
九州大学大学院 システム情報科学研究院 電子デバイス工学部門
-
池田 晃裕
九州大学大学院システム情報科学研究院
-
黒木 幸令
九州大学大学院システム情報科学研究院電子デバイス工学部門
-
山下 浩
(株)半導体先端テクノロジーズ基盤技術研究部
関連論文
- チップスタック型マルチチップ実装におけるMOSFETの移動度の変動について(SiP応力解析技術, 先端電子デバイス実装技術と解析・評価技術の最新動向論文)
- V字溝型ゲートMOSFETの作製と電気特性の評価
- 超低消費電力ワイヤレス機器向け高効率安定化電源回路の検討(:「LSIシステムの実装・モジュール化, テスト技術, 一般)
- 同一基板上マルチチャネル型味覚センサチップの開発(有機デバイス全般・一般)
- 超低消費電力ワイヤレス機器向け高効率安定化電源回路の検討(:「LSIシステムの実装・モジュール化, テスト技術, 一般)
- 電流指定型ポリシリコンTFTアクティブマトリックス駆動有機LEDディスプレイの回路シミュレーション
- 電流指定型ポリシリコンTFTアクティブマトリックス駆動有機LEDディスプレイの回路シミュレーション
- 3次元積層マルチチップパッケージ技術の研究
- GPCを用いたシンクロトロン露光PMMAの熱現像機構に関する考察
- Electron Projection Lithographyのための相補型ステンシルマスクのつなぎ補助の検討
- 誘導結合型窒素プラズマによるシリコン酸窒化
- 窒素プラズマに照射したSi基板上に形成された酸化膜の熱酸化特性とその信頼性
- 窒素プラズマに照射したSi基板上に形成された酸化膜の熱酸化特性とその信頼性
- 窒素プラズマに照射したSi基板上に形成された酸化膜の熱酸化特性とその信頼性
- 窒素プラズマと熱酸化による地球温暖化の無いSi酸窒化プロセスの検討
- 水素プラズマによりシリコン酸化膜に導入される欠陥の電気的評価
- 誘導結合型水素プラズマによるSi基板洗浄のrfバイアス及び基板温度の効果
- 水素プラズマによる低温アニール装置の提案
- 薄いシリコン熱酸化膜と熱酸化窒化膜の電気的特性
- 水素プラズマ処理した薄いシリコン熱酸化膜の電気的特性
- A Recessed Channel MOSFET with Plasma-grown Silicon Oxynitride Gate Dielectric
- Simulated Characteristics of Deep-submicrometer Recessed Channel epi-MOSFETs
- A Study of Thick PMMA Film Etching by the Method of Combined Deep X-Ray Lithography and Thermal Development
- Fabrication of Open-Top Microchannel Plate Using Deep X-Ray Exposure Mask Made with Silicon On Insulator Substrate
- ICPプラズマ密度へのアンテナ構造の影響
- 無電池式RFIDでの弱結合時の充電電圧向上についての検討