新プリカーサーを用いた低透水性バリア Low-k SiC 膜(k<3.5)
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概要
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- 2011-01-31
著者
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宇佐美 達矢
Necエレクトロニクス株式会社
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三浦 幸男
ルネサスエレクトロニクス株式会社
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宇佐美 達矢
ルネサスエレクトロニクス株式会社
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小林 千香子
ルネサスエレクトロニクス株式会社
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永野 修次
大陽日酸株式会社
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大音 光市
ルネサスエレクトロニクス株式会社
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清水 秀治
大陽日酸株式会社
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加田 武史
株式会社トリケミカル研究所
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大平 達也
株式会社トリケミカル研究所
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藤井 邦宏
ルネサスエレクトロニクス株式会社
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