下地膜によるCo-Smアモルファス薄膜の熱処理挙動改善
スポンサーリンク
概要
- 論文の詳細を見る
- 2007-12-20
著者
関連論文
- TMRヘッドにおけるマグノイズ解析(磁気記録)
- Fe／Mn-Ir交換結合単磁区磁性薄膜の磁気Kerr効果を用いた光信号式歪センサの基礎検討
- 携帯端末用PFM制御マイクロDC-DCコンバータの開発(スイッチング電源,家庭向け情報通信機器のエネルギー技術,一般)
- 高周波電力用マイクロ磁気デバイスの開発動向(制御技術関連)
- Fe系金属微粒子分散媒質を装荷したモノポールアンテナの試作
- CMOS-IC負荷におけるスイッチング電源ノイズのシグナル・インテグリティに及ぼす影響(制御技術関連)
- CoPdSiO磁性薄膜インダクタ/ポリイミドMIMキャパシタを用いた2段共振器型高次スプリアスフィルタの試作
- 携帯電話用CoFeB磁性薄膜方向性結合器の大振幅信号伝送特性(計測・高周波デバイス)
- 携帯電話用CoFeB磁性薄膜方向性結合器の大振幅信号伝送特性の評価
- CoFeB磁性薄膜伝送線路を用いたマイクロ波帯π型ローパスフィルタの試作
- CoFeB磁性薄膜を用いた携帯電話RF回路用方向性結合器の特性改善
- 磁性薄膜/誘電体膜積層ハイブリッド伝送線路方向性結合器の特性解析
- 携帯電話用磁性薄膜方向性結合器の基礎検討
- 携帯電話PA用インピーダンス整合器への適用を目的としたCoFeB/ポリイミドハイブリッド薄膜コプレーナ線路の低損失化
- CoFeB/ポリイミドハイブリッド薄膜コプレーナ線路を用いたGHz帯ローパスフィルタの試作
- CoFeB/ポリイミドハイブリッド薄膜コプレーナ線路を用いた1.8GHz帯携帯電話PA用インピーダンス整合器の低損失化の検討
- Fe-Ni-Co-Si軟磁性圧粉磁心の磁歪評価ならびに磁区観察
- 集積化電源用フェライトメッキ膜プレーナインダクタの試作
- CoFeSiOグラニュラー積層磁性薄膜を用いたRFインダクタの試作と評価
- 携帯端末用PFM制御マイクロDC-DCコンバータの開発
- 電磁波遮蔽効果を有するナノファイバー布帛の作製と特性評価
- Li-Zn-Cuフェライト多結晶体の感温性とFeのMn部分置換との関係(ハード・ソフト磁性材料)
- スリットパターン化Mn-Ir/Fe-Si交換結合膜の飽和磁界と高周波磁気特性の熱処理温度依存性
- 磁性/誘電性複合媒質ダイポールアンテナの特性解析
- 携帯機器用マイクロDC-DCコンバータの特性解析と過渡応答特性の改善
- 厚膜化した磁性金属粒子/非磁性体複合材料を用いたマイクロ電源用プレーナインダクタの作製
- 多結晶Li-Zn-Cuフェライトの感温性に及ぼすLiフェライトの影響
- 電磁波遮蔽効果を有する金属磁性材料コーティングナノファイバー不織布の作製と特性評価
- 感温Li-Zn-Cuフェライト基板を用いたスパイラル伝送線路型チップ温度センサ素子の作製
- Fe-Si/Mn-Ir交換結合単磁区磁性薄膜の Kerr 効果を用いた光プローブ電流センサの基礎検討
- 磁性金属/ポリイミド複合材料厚膜を用いたプレーナパワーインダクタの試作とDC-DCコンバータへの適用実験
- CoSm高周波磁性膜を用いた薄膜伝送線路デバイスの試作と損失低減効果の検討
- カルーセルスパッタ法で作製される高磁化大異方性CoFeBアモルファス磁性薄膜の熱履歴と磁気特性の関係
- CoFeBアモルファス金属磁性膜を用いたGHz帯用薄膜コプレーナ伝送線路の試作
- CoFeBアモルファス金属磁性膜を用いたGHz帯用薄膜コプレーナ伝送線路の試作
- GHz帯用CoFeB金属磁性膜/ポリイミド膜ハイブリッド伝送線路
- 金属磁性膜を用いた高周波コプレーナ伝送線路の特性解析
- 信号線路に無電解Ni基合金めっき膜を被覆した低クロストーク高密度プリント回路基板の作製と特性評価
- 微結晶Mn-Znフェライトを用いた伝送線路トランスの試作
- 127 高抵抗軟磁性膜を用いた DC-DC コンバータ用薄膜インダクタの開発
- Fe-M-0膜を用いた薄膜インダクタの3次元磁界解析
- Fe-M-O膜を用いた薄膜インダクタの3次元磁界解析
- 微結晶Mn-Znフェライトを用いた伝送線路トランスの試作
- 全自動1MHz-3GHz薄膜透磁率測定装置の開発
- 微結晶Mn-Znフェライトを用いた伝送線路トランスの試作とCFLインバータへの適用実験
- 高抵抗ナノ結晶Fe(CoFe)-M-O膜 (M=Hf, Zr, rare-earth) の高周波軟磁気特性とその積層インダクタへの応用
- Mn-Ir/Fe-Si交換結合膜の磁気特性の熱処理温度依存性
- Fe-Si/Mn-Ir交換結合磁性膜における磁界中熱処理と磁気特性の関係
- Fe-Si磁性膜に及ぼすRu下地層の効果
- 複数の強磁性共鳴を有するMnIr/FeSi交換結合積層膜の作製
- 高周波マイクロ磁気デバイス用Mn-Ir/Fe-Si交換結合膜の作製と特性評価(ソフト磁性材料)
- Ru下地層を有するマイクロ波帯磁気デバイス用FeSi/IrMn交換結合膜の試作と特性評価
- 磁性金属/ポリイミド複合材料厚膜を用いたプレーナパワーインダクタの試作(部品・照明・デバイス・材料技術関連,一般)
- 高周波磁気デバイス用センダスト/ポリイミド複合材料厚膜の作製と特性評価
- 対角方向に一軸磁気異方性を付与した正方形スパイラルコイル型磁性薄膜リアクトル
- 機能性磁性材料の光・高周波応用
- Ni-Znフェライトインダクタを集積したマイクロ電源のCMOS-IC負荷における電源ノイズに関する実験的検討
- 磁性体/誘電体ハイブリッド型内部導体ラインの高周波電磁界解析と特性シミュレーション
- モード離LISNによる伝導雑音のノイズ源インピーダンスの測定-スイッチング電源の伝道雑音の測定-
- CoZrNb/ポリイミドハイブリッド薄膜コプレーナ伝送線路の試作
- 高周波キャリア型磁界センサの磁界検出に及ぼすスイッチング電源ノイズの影響(計測・高周波デバイス)
- ポリイミド薄膜マイクロストリップ線路とCoZrNb/ポリイミドハイブリッド薄膜マイクロストリップ線路の特性比較
- ポリイミド薄膜マイクロストリップ線路とCoZrNb/ポリイミドハイブリッド薄膜マイクロストリップ線路の特性比較
- CoZrNb磁性膜/ポリイミド膜積層型1/4波長マイクロストリップ線路の試作と評価
- CoZrNb/ポリイミドハイブリッド薄膜マイクロストリップ線路を用いたチューナブル移相器の試作
- Li-Zn-Cuフェライトの温度センシングへの適用に関する基礎的検討(計測・高周波デバイス)
- Li-Zn-Cuフェライトの温度センシングへの適用に関する基礎的検討
- Li-Zn-Cuフェライトを用いた共振型温度センサの試作
- Co系アモルファス磁性薄帯/プレーナコイル積層型フラックスゲート二軸磁界センサの試作
- Co系アモルファス磁性薄帯/プレーナコイル積層型フラックスゲートを用いた二軸磁界センサの試作
- 平面コイル/磁性層積層型フラックスゲートセンサ
- Fe/Mn-Ir交換結合膜の磁気 Kerr 効果を用いた光信号式歪センサの基礎検討と圧縮応力測定
- マイクロDC-DCコンバータの高効率化に関する考察
- CoZrNb/ポリイミドハイブリッド薄膜マイクロストリップラインの試作
- 伝送線路の入力インピーダンスの変化を用いた振幅変調型磁界センサ
- 磁性体/誘電体ハイブリッド型マイクロストリップライン, ならびにパラレルラインの高周波電磁界解析と特性シミュレーション
- 強磁性共鳴を利用したマイクロストリップ線路フィルタ
- 磁性薄膜/誘電体膜ハイブリッド伝送線路を用いた帯域通過フィルタ,ならびに帯域阻止フィルタの可能性 : 3次元高周波電磁界解析によるデバイスシミュレーション
- CoZrNb磁性膜 : ポリイミド誘電体膜ハイブリッド伝送線路の試作
- 磁性体/誘電体積層型伝送線路デバイスの可能性II -高感度磁界センサへの適用について-
- 磁性体/誘電体積層型伝送線路デバイスの可能性I -準マイクロ波帯デバイスへの適用について-
- 薄膜インダクタを用いた超小型DC/DCコンバータ
- パワーマグネティックス : 高周波電力用マイクロ磁気デバイスとマイクロ電源
- 集積化高周波マイクロ磁気デバイスとRF-ICへの応用可能性
- RF回路用集積化磁性薄膜デバイスの開発
- 次世代超高周波マイクロ磁気デバイス調査専門委員会
- 金属磁性膜を用いた集積化RF伝送線路デバイスの開発
- マイクロ磁気デバイスのシステム化調査専門委員会
- 携帯電話用平面スピーカの特性解析
- CoFeSiO/SiO_2積層グラニュラー膜の狭い強磁性共鳴ピークに対するPd添加効果
- Mn-Znフェライト/Ni-Znフェライト伝送線路昇圧トランスを用いた高周波インバータの試作
- モータ駆動電流による真空ドライポンプ稼働寿命の予測について
- 下地膜によるCo-Smアモルファス薄膜の熱処理挙動改善
- Co-Smアモルファス薄膜の高周波磁気特性
- NiFe合金磁性膜を用いた応力磁気抵抗効果型歪センサの基礎検討
- NiFe合金磁性膜を用いた応力磁気抵抗効果型歪センサの基礎検討
- Mn-Znフェライト/ポリイミド複合材料膜を用いたGHz帯コモンモードフィルタの試作
- 電子計測器スイッチング電源用超広帯域ノイズフィルタの試作(制御技術関連)
- Mn-Znフェライト/ポリイミド複合材料と銅箔コイルを用いた大電流用プレーナインダクタの試作(制御技術関連)
- CoZrNb/ポリイミドハイブリッド薄膜コプレーナ伝送線路の試作