c-BN膜の密着性と切削特性
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概要
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We developed high performance cutting Tools coated c-BN thin films. In the present report , the adhered property of c-BN thin films is depend on bombardment conditions. Important conditions in adhered property are substrate power of Ar bombardment, substrate voltage of Ti ion bombardment and substrate voltage of B layer. As result, better bombard conditions are 290~400 W substrate power in Ar bombardment, -5~-10 V substrate voltage in Ti ion bombard and -5 substrate voltage in B layer. The critical peeling load L of c-BN thin films with this condition is 90N or more. The c-BN thin film with better conditions on end-mill isnt cracked in cutting of S55C.
- 日本真空協会の論文
- 2008-06-20
著者
-
小川 圭二
滋賀県立大学機械システム工学科
-
小川 圭二
滋賀県立大
-
中川 平三郎
滋賀県立大
-
野間 正男
神港精機
-
所 敏夫
滋賀県東北部工業技術センター
-
野間 正男
神港精機(株)
-
野間 正男
神港精機株式会社
-
小松 永治
神港精機株式会社
-
Ogawa K
Doshisha University Graduate School
-
Ogawa Keiji
School Of Engineering The University Of Shiga Prefecture
-
中川 平三郎
滋賀県立大学
-
OGAWA Keiji
Department of Mechanical System Engineering, The University of Shiga Prefecture
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