イオン注入法を用いた歪み緩和SiGe薄膜の作製と応用
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概要
著者
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白木 靖寛
都市大総研
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澤野 憲太郎
都市大総研
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白木 靖寛
武蔵工業大学総合研究所
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中川 清和
山梨大学クリスタル科学研究センター
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澤野 憲太郎
武蔵工業大学総合研究所シリコンナノ科学研究センター
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白木 靖寛
東京都市大学工学部
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澤野 憲太郎
東京都市大
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