グレイスケールリソグラフィと構造体転写を用いた感光材料と樹脂材料の微細3次元加工
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概要
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Three dimensional structures on SU-8 photoresist were fabricated by gray-scale lithography. A thin glass substrate was plastered over with SU-8 and UV light was irradiated through the glass substrate. SU-8 structures with maximum 400μm height and strong adhesion to the substrate were achieved by the lithography technique. The relation between gray-scale value and the resist height were evaluated and the maximum surface roughness of the structure was 0.98μm. Three dimensional structures such as micro capillaries were fabricated on PDMS from the SU-8 structures by molding.
- 2004-10-01
著者
-
森 涼太郎
埼玉大学
-
松本 佳宣
慶應義塾大学
-
松本 佳宣
慶應義塾大学理工学部物理情報工学科
-
松本 佳宣
慶應義塾大学理工学部
-
松本 佳宣
慶応義塾大学理工学研究科
-
森 涼太郎
慶應義塾大学
-
花井 計
慶應義塾大学
-
花井 計
慶應義塾大学理工学部物理情報工学科
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