傾斜回転露光法による三次元加工法

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概要

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• Arrays of micro overhanging structures were fabricated with very high uniformity by negative-tone photoresist of SU-8 and novel lithography technique, inclined rotary stage and backside exposure. Conventional chrome mask with an array of apertures was used as a substrate, and photoresist was directly spun on the mask. Rotational symmetric structures of SU-8 were obtained by irradiating through the apertures from the backside of the mask, inclining and rotating the stage. It is also possible to fabricate more elaborate and multilevel structures by using another photomask which partially blocks the rays at desired phase of rotation. In addition, light-guiding device with uniform draft angle was prototyped with this technique by using positive-tone photoresist of PMER P-CA1000PM and molding technique.

• 2006-06-01

著者

• 松本 佳宣

  慶應義塾大学

• 松本 佳宣

  慶應義塾大学理工学部物理情報工学科

• 松本 佳宣

  慶應義塾大学理工学部

• 中原 崇

  慶應義塾大学理工学部物理情報工学科

• 松本 佳宣

  慶応義塾大学理工学研究科

• 鈴木 慎也

  慶應義塾大学理工学部物理情報工学科

• 花井 計

  慶應義塾大学

• 花井 計

  慶應義塾大学理工学部物理情報工学科

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