高アスペクト比立体形状への配線パターン露光法の開発

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概要

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• A crystal oscillator needs to be wired on the both top and sidewalls in order to detect electrical charge. Photolithography is expected to fabricate finer pattern than mask evaporation. However, coating resist on an edge of the substrate and patterning the sidewall are difficult. In this study, photoresist (AZ-p4620) was successfully coated on all surfaces and edges of the substrate by spray coating. And resist on all surfaces was patterned by using inclined exposure method. A line pattern of 20μm width was obtained on the sidewall at 150μm depth.

• 社団法人 電気学会の論文
• 2005-06-01

著者

• 松本 佳宣

  慶應義塾大学

• 松本 佳宣

  慶應義塾大学理工学部物理情報工学科

• 松本 佳宣

  慶應義塾大学理工学部

• 松本 佳宣

  慶応義塾大学理工学研究科

• 花井 計

  慶應義塾大学

• 田村 喜朗

  慶應義塾大学理工学部物理情報工学科

• 花井 計

  慶應義塾大学理工学部物理情報工学科

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