紫外線分解法と触媒分解法の組み合わせ方式によるPCB無害化処理装置の最適化
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概要
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ポリ塩化ビフェニル（polychlorinated biphenyls）の無害化処理が世界的に加速している．筆者らは処理温度と圧力が低い氏i株）O線分解および触媒分解を併用（以下，光／触媒法という）した無害化プラントを開発した．まず氏i株）O線分解法単独の場合の分解進行に伴う分解率の低下要因の分析を基に反応速度式をモデル化した．続いてPd/C触媒分解法は塩素密度の高いPCBのオルト位の塩素を残す形で分解反応が進むことと，NaClの析出が高濃度PCBの触媒分解率低下の原因であることを推定し，両手法を500ppmレベルで組み合わせた光／触媒法が反応速度的に最適であることを予測した．これらの予測結果に基づき最終的に75°C，大気圧環境下での反応による光／触媒法による実規模装置による確証試験を実施し，反応速度定数0.132min− 1を達成し，目標値0.101min− 1（2時間で10,000ppmから0.05ppmに分解）を上回ることを確認した．分解反応生成物に関しても，光／触媒法では有害性高分子塩素化物などの未知の物質は生成しないことも確認し．光／触媒法の有効性を確認した．
- 2003-11-20
著者
-
迫田 章義
東京大学生産技術研究所
-
田嶋 直樹
(株)東芝 事業開発推進統括部
-
小原 敦
(株)東芝 技術管理部
-
渡辺 敦雄
(株)東芝PCB処理事業推進室
-
村松 武彦
(株)東芝研究開発センタ
-
田嶋 直樹
(株)東芝電力システム社 Pcb処理事業推進室
-
小原 敦
(株)東芝pcb処理事業推進室
-
小原 敦
(株)東芝電力システム社 Pcb処理事業推進室
-
渡辺 敦雄
(株)東芝電力システム社 Pcb処理事業推進室
-
村松 武彦
(株)東芝
-
追田 章義
東京大学 生産技術研究所
-
迫田 章義
東京大
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