欠陥点サンプリング技術を利用した外観検査手法

スポンサーリンク

概要

• 論文の詳細を見る

• Hi-speed and highly sensitive visual inspection tools are in practical use in the field of semiconductor wafer inspection. Defect review is a critical step to grasp the defect condition, that is, to know what types of defects are occurred on the wafer. However, it is not practical to review whole defects on the wafer because of a quantitative gap between the detected defects and defects to be reviewed within certain practical time. To bridge this gap, a visual pattern detection algorithm of spatially distributed defect points and an optimum defect sampling plan are proposed. Experimental result shows that partial defect review is enough to grasp the defect occurrence condition all over the wafer. by applying the proposed method for defect review.

• 2004-03-01

著者

• 細谷 直樹

  (株)日立製作所生産技術研究所

• 渋谷 久恵

  日立製作所生産技術研究所

• 高木 裕治

  (株)日立製作所生産技術研究所

• 高木 裕治

  株式会社 日立製作所 生産技術研究所

• 渋谷 久恵

  株式会社 日立製作所 生産技術研究所

• 細谷 直樹

  株式会社 日立製作所 生産技術研究所

関連論文

• 欠陥種を考慮に入れた局所一貫性に基づく欠陥パタン照合法
• Whiteningと線形予測を用いた人為的操作を伴うプラントの異常検出 (ヒューマン情報処理)
• Whiteningと線形予測を用いた人為的操作を伴うプラントの異常検出 (パターン認識・メディア理解)
• クラスタリングと部分空間法による異常検知手法
• D-12-6 未知欠陥の分類に有効な特徴選択手法の基礎検討(D-12.パターン認識・メディア理解A(パターンメディアの認識・理解・生成),一般セッション)
• D-12-7 未知欠陥の分類における閾値の決定に関する基礎検討(D-12.パターン認識・メディア理解A(パターンメディアの認識・理解・生成),一般セッション)
• ランダムな特徴選択とバギングを利用した欠陥分類
• 局所一貫性に基づく点群照合法(サマーセミナー(若葉研究者の集い)「最先端ビジョン技術が拓く画像応用の新境地」)
• 特徴選択とベイズ決定則を利用した欠陥分類
• 欠陥種を考慮に入れた局所一貫性に基づく欠陥パタン照合法とその応用
• 局所一貫性による点群の回転照合法と欠陥パターン照合への応用(パターン認識)
• ユーザの選好を反映した特徴変換(一般,顔・人物・ジェスチャ・行動)
• ユーザの選好を反映した特徴変換(一般,顔・人物・ジェスチャ・行動)
• テスト特徴法に基づく逐次パタン学習と欠陥画像分類への応用
• テスト特徴法に基づく逐次パタン学習
• テスト特徴法に基づく逐次パタン学習
• 近傍整合性の累積評価に基づく回転照合法と欠陥点群分布照合への応用
• 点群分布パターン識別に基づく欠陥分類技術
• 欠陥点サンプリング技術を利用した外観検査手法
• 点群分布形状の識別手法に関する検討
• Whiteningと線形予測を用いた人為的操作を伴うプラントの異常検出(一般,顔・人物・ジェスチャ・行動)
• Whiteningと線形予測を用いた人為的操作を伴うプラントの異常検出(一般,顔・人物・ジェスチャ・行動)
• 欠陥分布パターン照合に基づく問題工程特定技術(DIA推薦論文)
• 決定木を利用した分類ルール自動生成技術--半導体ウェーハを対象としたリアルタイム欠陥分類
• 決定木を利用した欠陥分類ルールの自動生成技術
• 第7回小田原賞受賞 欠陥点サンプリング技術を利用した外観検査手法 (特集2 優れた画像処理研究に触れる)
• 立体形状の高速認識方式
• トップダウンSEM像を用いたレジストパタン膜厚管理
• 画像計測による製造プロセスパラメータ推定法の検討
• D-11-130 半導体製造工程でのSEM計測画像によるコンタクトホールの形状評価手法(D-11.画像工学D)
• Test Feature Classifier による逐次パタン分類とその時系列認識問題への応用(一般セッション(2))(ユビキタスコンピューティングのためのパターン認識・メディア理解,一般)
• 欠陥分布パターン識別手法の検討 (第6回 知能メカトロニクスワークショップ--人間を支援するメカトロニクス技術) -- (特別セッション 検査の知能化/生産システム)
• 3E-2 センサモデルと投票に基づく異常検知(人工知能一般(1),一般セッション,人工知能と認知科学,情報処理学会創立50周年記念)
• H-022 センサモデルと投票に基づく発電機の異常検知の検討(画像認識・メディア理解,一般論文)
• 生産システム分野における多次元センシングの応用
• Gaussian Processesを用いたプラントの異常及びその予兆の検出(MR/ARの実用化に向けたCV/PR技術の課題と展望)
• Gaussian Processesを用いたプラントの異常及びその予兆の検出(MR/ARの実用化に向けたCV/PR技術の課題と展望)
• 尤度ヒストグラムに基づく異常検出(一般セッション,文字・文書の認識と理解)
• 多センサの多次元表現と部分空間識別器に基づく異常検知(一般セッション,文字・文書の認識と理解)
• 異常検出におけるSimilarity Based ModelingとGaussian Processesの関連に関して(一般セッション,医用画像処理分野における計測・認識・理解)
• 異常検出におけるSimilarity Based ModelingとGaussian Processesの関連に関して(一般セッション,医用画像処理分野における計測・認識・理解)
• 異常検出におけるSimilarity Based ModelingとGaussian Processesの関連に関して(一般セッション,医用画像処理分野における計測・認識・理解)
• Gaussian Processesに基づく異常予兆検出への多重解像度解析の導入 (マルチメディア・仮想環境基礎)
• Gaussian Processesに基づく異常予兆検出への多重解像度解析の導入 (パターン認識・メディア理解)
• Gaussian Processesに基づく異常予兆検出への多重解像度解析の導入(実世界センシングとその応用)
• Gaussian Processesに基づく異常予兆検出への多重解像度解析の導入(実世界センシングとその応用)
• 尤度プロファイル特徴に基づく異常分類(テーマセッション,時系列パターン認識)
• 尤度プロファイル特徴に基づく異常分類(テーマセッション,時系列パターン認識)
• 部分空間法に基づく残差ベクトル軌跡による異常検知手法の検討

もっと見る 閉じる

スポンサーリンク