フォトンラプチャー法による厚いアルミニウムアノード酸化皮膜の局部除去と局部金属析出 (E)
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概要
著者
-
坂入 正敏
Graduate School of Engineering, Hokkaido University
-
高橋 英明
Graduate School of Engineering, Hokkaido University
-
片山 直樹
北海道立工業試験場
-
阿部 芳彦
北海道立工業試験場
-
高橋 英明
Graduate School Of Engineering Hokkaido University
-
坂入 正敏
Graduate School Of Engineering Hokkaido University
-
〓 松竹
Advanced Materials Laboratory National Institute For Materials Science
-
加藤 善大
Graduate School of Engineering, Hokkaido University
-
阿部 芳彦
Hokkaido Industrial Research Institute
-
片山 直樹
Hokkaido Industrial Research Institute
-
加藤 善大
東北工大
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