坂入 正敏 | Graduate School of Engineering, Hokkaido University

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概要

• 同名の論文著者
• Graduate School of Engineering, Hokkaido Universityの論文著者

関連著者

• 坂入 正敏

  Graduate School of Engineering, Hokkaido University

• 高橋 英明

  Graduate School of Engineering, Hokkaido University

• 高橋 英明

  Graduate School Of Engineering Hokkaido University

• 坂入 正敏

  Graduate School Of Engineering Hokkaido University

• 菊地 竜也

  Graduate School Of Engineering Hokkaido University

• 高橋 英明

  旭川工業高等専門学校

• 高橋 英明

  北大工

• 菊地 竜也

  北海道大学 大学院工学研究院

• 後藤 良仁

  Graduate School of Engineering, Hokkaido University

• 伏見 公志

  Graduate School of Engineering, Hokkaido University

• 片山 直樹

  北海道立工業試験場

• 小山 瞬

  Graduate School of Engineering, Hokkaido University

• 永田 晋二

  Institute for Materials Research, Tohoku University

• 阿部 芳彦

  北海道立工業試験場

• 伏見 公志

  Graduate School Of Engineering Hokkaido University

• 永田 晋二

  東北大学金属材料研究所

• 菊池 竜也

  Graduate School of Engineering, Hokkaido University

• 〓 松竹

  Advanced Materials Laboratory National Institute For Materials Science

• 加藤 善大

  Graduate School of Engineering, Hokkaido University

• 阿部 芳彦

  Hokkaido Industrial Research Institute

• 片山 直樹

  Hokkaido Industrial Research Institute

• 菊池 竜也

  Graduate School Of Engineering Hokkaido University

• 後藤 良仁

  Graduate School Of Engineering Hokkaido University

• 加藤 善大

  東北工大

• 小山 瞬

  Graduate School Of Engineering Hokkaido University

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著作論文

• 同軸2重管溶液フロー型液滴セルを用いるCuマイクロロッドの作製(E)
• 塩化ニオブを前駆体としたゾルからのNb_2O_5析出とNb_2O_5被覆Alのアノード酸化挙動
• アルミニウムのアノード酸化を基礎とするマイクロおよびナノテクノロジー : レーザー照射と電気化学的処理との複合プロセス
• フォトンラプチャー法による厚いアルミニウムアノード酸化皮膜の局部除去と局部金属析出 (E)

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