複数波長を用いた多波長X線反射率法の検討
スポンサーリンク
概要
- 論文の詳細を見る
- 1999-10-01
著者
-
平野 辰巳
(株)日立製作所日立研究所
-
今川 尊雄
(株)日立グローバルストレージテクノロジーズ
-
田島 康成
日立
-
平野 辰巳
日立日立研
-
今川 尊雄
ストレージシステム事業部
-
宇佐美 勝久
日立協和エンジニアリング(株)
-
宇佐美 勝久
日立日立研
-
小林 憲雄
日立日立研
-
田島 康成
ストレージシステム事業部
-
今川 尊雄
(株)日立製作所ストレージ事業部
-
今川 尊雄
日立・ストレージ事業部
関連論文
- シンクロトロン放射光を用いた X 線 CT による金属基複合材料の内部繊維観察
- X線異常分散を利用したCu/Ni_Fe_積層薄膜の回折線分離法の検討
- 積層フェリ固定層にFe酸化層を挿入したボトムスピンバルブの磁気抵抗効果と自由層の磁気特性(薄膜)
- 中性子反射率による磁性多層膜の磁気構造評価
- 中性子反射率による磁性多層膜の磁気構造評価
- 中性子反射率によるGMR膜の磁気モーメント評価
- Fe酸化層を挿入したスピンバルブにおける自由層の磁気特性
- Co-K_βX線反射率法によるスピンバルブ膜層構造解析の基礎検討
- Co-Kβ X線反射率法によるSV膜層構造解析法に基礎検討
- Co/CrMnPt 系の強磁性粒/反強磁性粒の交換結合(2) ; 結果の解析
- Co/CrMnPt系の強磁性粒/反強磁性粒の交換結合(1) ; モデリング
- 斜入射X線散漫散乱法による基板表面形状評価
- NiKα1/NiKβ線を用いた2波長X線反射率法の検討
- 多波長X線反射率法の検討
- 多波長X線反射率法による積層フェリ型SV膜の層構造解析
- 複数波長を用いた多波長X線反射率法の検討
- NiFe/Ta界面反応層の評価
- Cu-K_β-X線反射率法による薄膜積層体の層構造解析 (多層膜・人工格子・グラニューラー)
- CuKβ-X線反射率法による薄膜積層体の層構造解析
- 4a-NL-7 XPSおよび赤外吸収によるa-Si:F中のSi-Fボンドの検討(II)
- 2a-W-25 XPSによるアモルファス・シリコン中の不活性元素の"結合状態"の検討
- 29a-D-6 XPSによるa-Si_xC_: Hの結合状態の検討 (II)
- XPSによるa-SixC1-X:H合金の組成分析
- 31p GE-6 XPSによるa-Si_xC_:Hの結合状態の検討
- 反応性スパッタリング法によるa-SixC1-x:H"混非晶"の作成といくつかの性質
- 非結晶体の電顕像にあらわれる色収差 : X線, 粒子線
- FeCr下地膜上のCoCrPt膜の磁気特性
- 高出力MRヘッド用NiFeX3元合金膜の磁気特性
- CrMn系反強磁性膜とNiFe膜の交換結合
- NiFe膜の一軸異方性の熱安定性
- CrMn系反強磁性膜とNiFe膜の交換結合
- CoCrTa垂直磁気記録媒体における組成分離
- TlSr_2Ca_Y_xCu_2O__ (x=0〜1.0)の超電導性に及ぼす酸素量変化δの影響
- 31p-PS-65 TlSr_2Ca_Y_xCu_2O_7(X=0〜1.0)の低温X線回折測定
- ハードバイアス接合部の永久磁石膜形状評価
- XPSによるa-SixC1-x : H合金の組成分析
- 10. 放射光トモグラフィ