プラズマCVD堆積SiO_2薄膜の絶縁破壊電界におよぼす フッ素添加の効果
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概要
著者
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加藤 宙光
産業技術総合研究所
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大木 義路
早稲田大学 先進理工学研究科 電気・情報生命専攻
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大木 義路
早稲田大学
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石井 啓介
早稲田大学
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加藤 宙光
早稲田大
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加藤 宙光
産総研エネルギー技術
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加藤 宙光
早稲田大学
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高見 明宏
早稲田大学
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酒井 真吾
早稲田大学
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加藤 宙光
(独)産業技術総合研究所エネルギー技術研究部門:CREST c/o 産総研
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