ニューラルネットワークによる分子設計 -代替フロン探索のための赤外線吸収強度の予測-
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概要
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- 1999-03-30
著者
-
上板 博亨
富山国際大学
-
上坂 博亨
富士通株式会社
-
松本 高利
物質工学工業技術研究所
-
田辺 和俊
物質工学工業技術研究所
-
長嶋 雲兵
物質工学工業技術研究所
-
吉元 昭二
愛知県工業技術センター
-
山本 博志
地球環境産業技術研究機構
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