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Faculty Of Engineering Musashi Institute Of Technology | 論文
- An EELS study on an individual borondoped multi-walled carbon nanotube
- シリコンの低温酸化膜の組成・構造遷移層の酸化プロセス依存性(プロセスクリーン化と新プロセス技術)
- 28aYB-2 軟X線吸収発光分光法によるシリコン酸窒化膜/Si界面電子状態の直接観測(28aYB 表面界面電子物性,表面局所光学現象,領域9(表面・界面,結晶成長))
- NH^*ラジカルを用いて形成した直接窒化シリコン窒化膜の界面構造と界面準位密度(ゲート絶縁膜, 容量膜, 機能膜及びメモリ技術)
- 角度分解光電子分光法によるゲート絶縁膜/シリコン基板界面に形成される構造遷移層に関する研究(プロセス科学と新プロセス技術)
- プラズマ窒化膜/Siの界面構造、サブナイトライド、価電子帯構造(ゲート絶縁膜、容量膜、機能膜及びメモリ技術)
- Si(100),(110)面上の極薄Si_3N_4-Si界面構造とその電気的特性
- 直接窒化膜特性のシリコン結晶面密度依存性,AWAD2006)
- 直接窒化膜特性のシリコン結晶面密度依存性
- 直接窒化膜特性のシリコン結晶面密度依存性(ゲート絶縁膜,容量膜,機能膜及びメモリ技術)
- 直接窒化膜特性のシリコン結晶面密度依存性
- Mechanical Properties of Mg_2Si/Mg Composites via Powder Metallurgy Process
- In-situ Synthesis of Mg_2Si Intermetallics via Powder Metallurgy Process
- Magnesium Matrix Composite with Solid-state Synthesized Mg-2Si Dispersoids
- Tribological Properties of Magnesium Composite Alloy with In-situ Synthesized Mg_2Si Dispersoids
- 207 Consolidation of Al-Ni-Zr amorphous alloy powder made by double mechanical alloying and its microstructure and mechanical properties
- 205 Mechanical Properties of Mg_2Si/Mg Composites via Powder Metallurgy Process
- 極薄シリコン酸窒化膜の種々の結合形態にある窒素原子の深さ方向分布(ゲート絶縁膜, 容量膜, 機能膜及びメモリ技術)
- プラズマ窒化によるシリコン酸窒化膜のX線光電子分光(プロセスクリーン化と新プロセス技術)
- Synthesis of Aliphatic Polyurea Films by Vapor Deposition Polyrmerization and Their Piezoelectric Properties
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