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Department Of Electronic Engineering Tohoku University | 論文
- ノンポーラスULK層間膜(フロロカーボン)へのダメージを抑制したCu-CMP後洗浄液の評価(プロセス科学と新プロセス技術)
- CORBA/GIOPを用いたFPGA向けオブジェクト指向プログラミング・テスト環境(組込みシステムプラットフォーム)
- オブジェクト要求ブローカのハードウェア化によりオブジェクトレベル通信を加速する「ORBエンジン」の提案(オペレーティング・システム/コンパイラ)
- 大規模回路エミュレーション用90nm CMOSマルチコンテクストFPGAの遅延評価(リコンフィギャラブル・アーキテクチャと論理合成,FPGA応用及び一般)
- マグネトロンスパッタによるSiO_2基板上への微結晶SiGeの堆積(結晶成長,評価及びデバイス(化合物,Si,SiGe,電子・光材料))
- 高精度CMP終点検出方法の検討(プロセス科学と新プロセス技術)
- 角度分解光電子分光法によるゲート絶縁膜/シリコン基板界面に形成される構造遷移層に関する研究(プロセス科学と新プロセス技術)
- RTN測定の高精度化・高速化技術とRTN特性に強い影響度を示すプロセス条件(携帯電話用カメラ,デジタルスチルカメラ,ビデオカメラ(ハイビジョン)とそのためのイメージセンサ,モジュール,特別企画「CCD誕生40周年記念講演-黎明期-」)
- Increased expression of β-defensin-2 and -3 during the development of autoimmune sialoadenitis in MRL/Ipr mice
- 極薄ゲート酸化膜の有機物汚染が与える影響
- MOSFET特性ばらつき、RTSノイズの統計的評価(プロセス科学と新プロセス技術)
- Stress Induced Leakage CurrentとRandom Telegraph Signalノイズとの相関(プロセス科学と新プロセス技術)
- 原子オーダ平坦化ウェハ表面のAFM評価手法及びデータ解析手法(プロセス科学と新プロセス技術)
- ラジカル窒化シリコン酸窒化膜における窒素プロファイルのX線光電子分光分析による評価
- CORBA/GIOPを用いたFPGA向けオブジェクト指向プログラミング・テスト環境(組込みシステムプラットフォーム)
- CORBA/GIOPを用いたFPGA向けオブジェクト指向プログラミング・テスト環境(組込みシステムプラットフォーム)
- 大型液晶ディスプ***ロジェクトが切り開く未来(総合報告)
- High Current Drivability FD-SOI CMOS with Low Source/Drain Series Resistance(Session 9B : Nano-Scale devices and Physics)
- 大規模回路エミュレーション用90nm CMOSマルチコンテクストFPGAの遅延評価(リコンフィギャラブル・アーキテクチャと論理合成,FPGA応用及び一般)
- 大規模回路エミュレーション用90nm CMOSマルチコンテクストFPGAの遅延評価(リコンフィギャラブル・アーキテクチャと論理合成,FPGA応用及び一般)
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